В научных институтах Зеленограда представили новые установки для обработки полупроводниковых материалов методом плазмохимического травления и осаждения. Эти системы предназначены для изготовления микросхем с технологическим узлом 65 нанометров.

Область применения оборудования включает работу с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 миллиметров, обеспечивая высокоточные процессы в вакуумной среде. Такой подход помогает существенно снизить риск загрязнений и повысить процент выхода качественных чипов.

Технология 65 нанометров, первоначально освоенная компанией Intel для массового производства процессоров в 2006 году, остается актуальной для изготовления относительно простых полупроводниковых компонентов.

Источник: @qwerty_live